Kenko MC UV SLM

這款濾鏡能有效消除370納米以下波長的紫外線。不需要曝光補償。這款濾鏡最適合用於山地、海灘、積雪區域以及其他存在大量紫外線的場景。

這款濾鏡的最佳用途包括:

山地景觀 - 高海拔地區的紫外線強度較高,使用這款濾鏡可以減少對感光材料的曝光。
海灘場景 - 海灘和水面反射的紫外線較強,使用這款濾鏡可以保護相機感光材料。
雪景 - 積雪的反射率很高,容易造成過度曝光。使用這款濾鏡可以避免這一問題。
其他高反射紫外線環境 - 如高海拔地區、沙漠等。這款濾鏡可以有效減少紫外線的曝光。
需要注意的是,使用這款濾鏡不需要進行曝光補償,因為它不會影響可見光的曝光量。這使得拍攝高反射紫外線環境時更加方便快捷。

總之,這款UV濾鏡是攝影師必備的裝備之一,可以有效保護相機感光材料,提高照片質量,尤其適用於一些高反射紫外線的環境。